窄帶濾光片的薄膜一般由低折射率和高折射率的兩種膜組成疊加后層數達幾十層每一層薄膜的參數漂移都可能影響最終性能；窄帶濾光片透過率對薄膜的損耗非常敏感，所以生產峰值透過率很高、半帶寬又很窄的濾光片對濾光片生產工藝的要求比較高。光學薄膜生產的方法有很多種，比如化學氣相沉積、熱氧化法、陽極氧化法、溶膠凝膠法、原子層沉積（ALD）、原子層外延（ALE）、磁控濺射等，而不同方法生產出來的薄膜性能差異很大。
目前深圳納宏光電生產的窄帶濾光片采用的是國內先進的蒸發沉積薄膜工藝。
窄帶濾光片在真空鍍膜設備的蒸發沉積過程中，真空室通過加熱或電子束轟擊進行蒸發。在鍍膜膜料蒸發過程中，蒸汽冷凝到窄帶濾光片待鍍膜表面用特定的光學工藝保持膜層均勻。和其他技術相比，真空蒸發沉積可以容納更大的鍍膜尺寸，使用離子束輔助沉積（IAD工藝）可以增強鍍膜工藝強度，離子束轟擊于基片表面，可以讓窄帶濾光片的膜層縝密性更好膜層牢固度更好可以滿足更多的使用需求。
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