真空離子電鍍法是目前光學濾光片行業使用比較多的濾光片鍍膜工藝工藝，物理氣相沉積術（PVD）屬于光學鍍膜最重要的工藝范疇。首先在真空鍍膜機中利用離子轟擊清洗濾光片待鍍膜基板表面，接著啟動蒸發源部分氣體在等離子體轟擊中離子化，并被預熱濾光片基板表面的負壓加速，因此，在層基板和部分新形成的金屬層連續被燒蝕的同時，汽化金屬層便生長在濾光片基板上。電子束蒸發技術相結合，可以得到較高的沉積率。入射電子束對濾光片膜層結構有很大影響，濾光片膜層性質取決于眾多復雜參數，因此通過有目的的工藝控制有可能直接影響濾光片膜層的密度、硬度和耐腐蝕性。物理氣相沉積術（PVD）屬于光學鍍膜最重要的工藝范疇。兩方面的優勢特別明顯：可鍍基板的多樣性以及實用鍍膜材料的廣泛性。
采用真空鍍膜離子（PVD）鍍膜的濾光片產品，膜層牢固性好，硬度高耐摩擦，耐腐蝕可以在高溫高濕的環境中長期使用并保持穩定的濾光片性能，目前納宏光電采用進口的真空鍍膜離子鍍膜機可以為您提供多種類可以定制化生產的濾光片解決方案，歡迎來電垂詢。
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